На этой установке получены отдельные изображения на подложках с разрешением до предельных 7 нм. В)_Сейчас «Микрон» — единственный в России контрактный вендор полупроводников, способен выпускать относительно современные чипы. Речь идет об оборудовании для фотолитографии, то есть машин, которые выполняют роль «станков» для чипов. Производство средств производства для средств производства, или хай-тек в третьей степени. Альтернативой масочной фотолитографии является безмасочная, которая делиться на несколько подвидов, которые в основном различаются типом воздействия (оптическим, рентгеновским или электронным лучом) на резистивный слой подложки.
Производить чипы будет быстрее. Созданы новые лазеры для фотолитографии
Литография воспроизводит полный план города, который вы собираетесь строить, в масштабе. С помощью нее можно нарисовать полностью всю схему коммуникаций — какие трубы будут проложены, где будут протянуты электрические провода. «В Институте прикладной физики Российской академии наук (ИПФ РАН) ведется разработка первой отечественной установки литографии для производства микроэлектроники по современным технологическим процессам. Ищете Фотолитография и операции с фоторезистом по хорошей цене и с техническим обслуживанием. ФОТОЛИТОГРАФИЯ (от фото и литография) в микроэлектронике, способ формирования рельефного рисунка заданной топологии в слое металла, диэлектрика или полупроводника в процессе изготовления интегральных схем.
Разработка отечественных фотолитографов идет в Зеленограде
| Производить чипы будет быстрее. Созданы новые лазеры для фотолитографии | Производство российского литографа для топологии 350 нанометров начнется уже в следующем году. Оборудование для выпуска чипов с топологией 130 нанометров — в 2026 году. |
| Росатом и РАН разработают российский рентгеновский фотолитограф для производства микроэлектроники | Проект реализуется до конца 2022 года по заказу Министерства промышленности и торговли Российской Федерации в рамках государственной программы «Развитие электронной и радиоэлектронной промышленности». |
| Россия создаст собственную литографию и за 7 лет освоит выпуск 14 нм чипов | Наконец, представитель ведомства сообщил, что в России будут созданы специальные полигоны для тестирования микроэлектроники. Сейчас их организовывают на базе имеющихся производств, но в следующем году начнётся строительство отдельных полигонов. |
Разработка отечественных фотолитографов идет в Зеленограде
В Зеленоградском нанотехнологическом центре ЗНТЦ началась разработка оборудования для фотолитографии. Два конкурса Минпромторга на создание установок для печати микросхем на кремниевых пластинах прошли осенью 2021 года: один — на разработку фотолитографа с уровнем топологии до 350 нм, второй — до 130 нм. В конце 2026 года планируется запуск серийного производства полностью отечественных фотолитографических установок — сообщает Зеленоград. Я был на открытии этого центра.
И тут обращает на себя то, насколько грамотно поставили задачу. Гнаться за ASML с их супертонкими нормами 7-5 нм и ниже — глупость. Никто в мире не может.
Поэтому взяли такие нормы, которые мы сможем потянуть. К тому же, продукты по этим нормам будут оставаться актуальными еще очень долго, особенно для стратегически важных областей.
Разработчики уверяют, что литографический комплекс, используемый для безмасочной нанолитографии, стоит в пределах 5 млн руб. Нанопрорыв России Специалисты Санкт-Петербургского политехнического университета Петра Великого СПбПУ разработали две установки для выпуска микроэлектронных наноструктур, которые дадут возможность «решить вопрос технологического суверенитета России в этом направлении в сфере микроэлектроники. В комплекс устройств входят установки для безмасочной нанолитографии и плазмохимического травления кремния. Первая установка используется для получения изображения на подложке, без использования специальной маски. Такая технология, по словам разработчиков менее затратна по сравнению с классической литографией как по деньгам, так и по времени, в которой для получения изображения используются специализированные шаблоны. Установка работает под управлением специализированного ПО и полностью автоматизирована. Новая установка оценивается приблизительно в 5 млн руб.
Разработка номер два Комплекс, разработанный в СПбПУ, предназначен для создания наноструктур, необходимых «для работы различного микроэлектронного оборудования.
Оптические лазерные массово применяются для создания плат травить металл на текстолите или керамике тоже литография с разрешением 50мкм. Несколько фирм делают и под более менее современные техпроцессы пригодные для прототипирования и мелкосерийного производства, но никто для массового.. Много фирм за более чем 20 лет и миллиарды долларов не получили оборудование для серийного производства, а наши за 5 лет их всех уделают за десяток миллионов долларов? При том что перед этим упустили с роснано разорившуюся Mapper Lithography у которых была работающая технология под 32nm, чьи патенты достались ASML, хорошо хоть их завод MEMS матриц в москве работает и по ходу эта новая разработка и есть откопанная документация Mapper Lithography которую по быстрому пытаются доработать обходя патенты. Сделать реально, но даже если реализуют оно пригодно только для мелкосерийного производства - вояки и космос обрадуются, но для быта слишком дорого.
Пришел из города, расположенного более, чем в 3000 км от Москвы. Заказ выполнили в срок, с требуемым уровнем качества. Уже с первого заказа затраты на годовое размещение были в полном объеме скомпенсированы. От этого клиента в первых числах октября 2019 г. Сейчас он в стадии комплектования. Другие запросы, полученные с ресурса, нами обработаны, и все они находятся в разной стадии готовности к началу работ. Если говорить о пользе ресурса помимо источника лидов, то, безусловно, это еще и ежедневная информация, всегда разноплановая, актуальная и интересная.
Путь к сердцу полупроводниковой фабрики: какие литографы доступны России?
| Россия опять сможет создать передовой литограф для печати микросхем в перспективе | Цель фотолитографии в микроэлектронике — формирование заданного изображения на кремниевой подложке для получения необходимой топологии микросхемы. Для этого на кремниевую подложку наносят тонкий слой материала, из которого нужно сформировать рисунок. |
| Фотолитография и операции с фоторезистом купите в ООО ЛионТех СПБ МСК России | фотолитография. Особенности применения технологии двукратного экспонирования однослойного фоторезиста при изготовлении полупроводниковых ИЭТ и фотошаблонов. |
| Российские наноиглы продлят срок работы рентген-аппаратов в десятки раз | Оригинал опубликован в Рентгеновская фотолитография в России На заре микроэлектроники, еще в 1965 году, один из создателей корпорации Intel Гордон Мур высказал предположение, которое впоследствии назвали законом Мура: число. |
В России создан суверенный литограф для выпуска микросхем. Он стоит как китайский автомобиль
Наконец, представитель ведомства сообщил, что в России будут созданы специальные полигоны для тестирования микроэлектроники. Сейчас их организовывают на базе имеющихся производств, но в следующем году начнётся строительство отдельных полигонов. Речь идет об оборудовании для фотолитографии, то есть машин, которые выполняют роль «станков» для чипов. Производство средств производства для средств производства, или хай-тек в третьей степени. России жизненно необходим свой фотолитограф не в конце текущего тысячелетия, а уже через два-три года.
РОСНАНО инвестирует в безмасочную литографию с разрешением до 10 нм
| RUSmicro – Telegram | Инвестиционные возможности в сфере развития фотолитографии в России. Фотолитография — это технология, которая является ключевой для производства полупроводниковых устройств, микросхем и других электронных компонентов. |
| В России построят полигоны, где будут тестировать оборудование для производства фотолитографов | О разработке российского рентгеновского EUV-литографа 21.03.2023 В Национальном центре физики и математики (НЦФМ,) состоялся научный семинар, посвященный EUV-литографии и перспективам создания отечественного EUV-литографа для. |
| Путь к сердцу полупроводниковой фабрики: какие литографы доступны России? | На данном образце получены отдельные изображения на подложках с разрешением до предельных 7 нм. Сейчас в России в промышленных масштабах могут работать с микроструктурами только более 65 нанометров (в основном 90 нм и более). |
| Российской литографии быть. Уже в следующем году | Недавно стала известна новость, что в России разрабатывают аналог технологии EUV — отечественный литограф с длиной волны менее 13,5 нм. EUV означает ‘экстремальный ультрафиолет’. Это относится к длине волны света. |
ФОТОЛИТОГРА́ФИЯ
Инвестиционные возможности в сфере развития фотолитографии в России. Фотолитография — это технология, которая является ключевой для производства полупроводниковых устройств, микросхем и других электронных компонентов. Изобретатели продолжают совершенствовать созданный ими комплекс для литографии. В частности, они намерены оснастить обе входящие в его состав установки искусственным интеллектом, не уточняя, какие именно задачи он будет решать. Недавно стала известна новость, что в России разрабатывают аналог технологии EUV — отечественный литограф с длиной волны менее 13,5 нм. EUV означает ‘экстремальный ультрафиолет’. Это относится к длине волны света. Российские ученые разработали первый в России проект рентгеновского литографа. Об этом сообщает пресс-служба енные чипы производятся методом фотолитографии.
В России построят полигоны, где будут тестировать оборудование для производства фотолитографов
В 2024 году должна быть готова «альфа-машина». Уже с этого момента установка станет рабочим оборудованием и будет рассчитана на проведение полного цикла операций. Однако упор на этом этапе будет сделан не на высокую скорость её работы или разрешение, а на полноценную реализацию всех систем. Однако и этого должно быть достаточно, чтобы разработка стала привлекательной для инвесторов и фабрик, особенно с учётом конкурентной стоимости самой установки и её обслуживания. На втором этапе в 2026 году появится «бета-машина». Системы будут улучшены и усложнены, увеличится разрешение, повысится производительность, многие операции будут роботизированы. Установку уже можно будет применять на масштабных производствах, что и будет сделано — на этом рубеже важно интегрировать её в реальные технологические процессы и отладить, «подтянув» соответствующее оборудование для других этапов производства.
Авторы проекта заверили, что созданные на такой установке мембраны превосходят по надежности и чувствительности изготовленные методами жидкостного или лазерного травления. Они подчеркнули также, что это полностью отечественный продукт. Стоимость второй установки ее создатели раскрывать не стали. Потенциальный спектр применения Комплекс из двух установок может применяться также для увеличения срока службы радиолокационного оборудования — более чем в 20 раз, сообщил заведующий лабораторией «Технологии материалов и изделий электронной техники» СПбПУ Артем Осипов.
Он добавил также, что если задействовать установки в производстве солнечных панелей, то можно будет добиться снижения их массы и размеров и научить их работать в пасмурную погоду при столь же высоком КПД, сколь и при ярком солнце. Изобретатели продолжают совершенствовать созданный ими комплекс для литографии. В частности, они намерены оснастить обе входящие в его состав установки искусственным интеллектом, не уточняя, какие именно задачи он будет решать. Конкуренты не дремлют СПбПУ — не единственный вуз, стремящийся создать передовые отечественные решения для литографии.
Здесь будет проводиться сборка и тестирование всех систем. Проект будет создаваться в несколько этапов с предположительным сроком: Создание альфа-литографа — примерно 2 года. Создание бета-литографа — около 3-х лет. Создание серийного литографа — 3 года. Седакова — маски и разработки техпроцессов. Институт лазерно-физических исследований — источники рентгеновских излучений и лазеров.
Группа компаний «Конструкторское бюро радиосистем» — 3D-сканеры и системы совмещения. ФТИ им.
Для поддержки этих усилий Россия выделила значительные средства: в бюджете на 2024 год предусмотрено 211,4 млрд рублей на такие государственные программы, как «Развитие электронной и радиоэлектронной промышленности» и «Научно-техническое развитие России». Эти инвестиции отражают стремление России включиться в гонку производства полупроводников и снизить зависимость от иностранных технологий в области микроэлектроники. Какие бывают чипы:.
Путь к сердцу полупроводниковой фабрики: какие литографы доступны России?
Революция сейчас? Если соответствующие машины действительно пойдут в коммерческую эксплуатацию уже в текущем году, как обещают в Canon, это означает настоящую революцию в отрасли, да и в хай-теке в целом. ASML может если не остаться полностью не у дел примеров того, как сложнейшие технологии оказывались в одночасье бесполезными, когда изобреталось что-то более простое и дешевое, в истории десятки, если не сотни , то как минимум потерять значительную долю рынка. Разработка сложного программного обеспечения вроде ИИ и нейросетей станет доступна куда большему кругу игроков. Санкции и экспортный контроль при обострившейся конкуренции на рынке станут куда менее эффективным инструментом. В то же время Китай может ускорить разработку своих собственных литографических машин, сейчас способных работать только на техпроцессе 28 нм чего, впрочем, более чем достаточно для производства подавляющего большинства чипов военного назначения. Но не всё так просто.
Во-первых, даже если технология будет полностью рабочей с технической точки зрения, возникают сложности более высокого порядка. Современное производство чипов заточено под машины ASML, а для низкого процента брака нужен высокий уровень стандартизации. Вряд ли два типа литографических машин смогут найти себе применение на одном заводе. Второе, как отмечает Дилан Патель, ведущий полупроводниковый блог Semi Analysis, при нанопечати необходим крайне высокий уровень точности при соприкосновении формы и пластины, чего добиться очень сложно. Кроме того, скорее всего, эта технология пока не подходит для производства сложных логических чипов для процессоров. В то же время она может найти свою нишу в изготовлении менее многослойных чипов памяти.
В мире идет борьба за то, чтобы сформировать на пластине максимально маленький объект. Если вы минимизируете элементы, то сможете нарисовать больше транзисторов на пластине. Литография борется именно за это.
Для того чтобы разместить на пластине как можно больше транзисторов, разработчики литографов значительно изменили принципы их построения. В этом случае аберрация погрешность объектива меньше, что обеспечивает лучшее пространственное разрешение. Полное изображение получается за счет согласованного перемещения маски и пластины с резистом это материал который изменяет свои физико-химические свойства под воздействием излучения, ультрафиолетового или рентгеновского.
То есть сканируется часть рисуночка и осуществляется его передача. Это позволило повысить разрешение. Второе направление — это укорачивание длины волны, переход от ультрафиолетовых ламп к коротковолновым лазерам 248,193 нм, что тоже позволило увеличить пространственное разрешение.
В-третьих, появилась иммерсионная литография, когда область между пластиной и выходом проекционного объектива заполняется иммерсионной жидкостью. Когда в микроскопе вы подкручиваете объектив, подводя к вашему образцу, — между ним и объектом расстояние очень маленькое, что можно увидеть сбоку. Чем меньше это расстояние, тем лучшее разрешение можно получить.
А если это пространство еще заполнить жидкостью, капля из-за натяжения закроет исследуемый образец, и разрешение повысится. Единственное, что делает литография — рисунок в резисте. А что делают дальше?
Дальше идут другие операции. После того, как они завершили все операции на этом слое, продиагностировали своим методом, что все у них прошло нормально, еще нужно слоев добавить. Опять резист наносят, опять новую маску вставят в литограф, и литограф рисует новый рисунок.
Вы в этом поле собираетесь построить город со своей инфраструктурой — асфальтовыми дорогами, канализацией, электрическими проводами. Город трехмерный, все это располагается на разных высотах. Литография воспроизводит полный план города, который вы собираетесь строить, в масштабе.
С помощью нее можно нарисовать полностью всю схему коммуникаций — какие трубы будут проложены, где будут протянуты электрические провода. То есть, это не просто план — вид сверху. Таким образом, с помощью современных литографов можно создать «электронный город», где количество транзисторов и других компонентов такое, какое невозможно было даже представить себе в 80-х годах.
Таким образом слой за слоем создается сложное переплетение микроскопических электронных элементов. При этом чем меньше длина волны излучения, тем более эффективные микросхемы можно производить с помощью такого литографа. Теперь специалисты Института физики микроструктур создали проект первого в России литографа, работающего в диапазоне 11,2 нм рентгеновские лучи. У нас есть экспериментальные результаты, указывающие на перспективы создания такого источника излучения на основе ксенона. Под него была разработана оптика с высоким коэффициентом отражения — рутениево-бериллиевые зеркала.
В России стоит задача не захватить мировой рынок, а первоначально обеспечить запросы своего. Поэтому для российского проекта важно качество.
Российские физики уже в этом плане создали демонстратор технологии на другом источнике излучения — рентгеновском. При этом наш источник излучения в разы компактнее и чище в работе, что значительно влияет на стоимость, размеры и сложность оборудования. Оптическая система демонстратора, собранная в ИПФ РАН, уже превосходит все аналоги, существующие в мире на сегодняшний день. А на выходе при равной мощности оборудованию ASML источника излучения российская установка будет в 1,5—2 раза эффективнее того, что создано мировым лидером». В полупроводниковом производстве задействовано более 50 видов сложного специализированного оборудования. Источник: Semiconductor Industry Association. April, 2021.
Сообщается также, что уже к 2026—2028 годам «российский литограф получит более мощный источник излучения, улучшенные системы позиционирования и подачи, станет работать быстро и точно». То есть тот самый лелеемый скачок через несколько технологических ступенек в производстве микрочипов можно считать проблемой почти решенной. Специалист по полупроводникам из крупного московского НИИ, к которому мы обратились с просьбой прокомментировать эту информацию, на условиях анонимности заявил: «В этом сообщении больше пиара. Но, с другой стороны, если люди работают в этом направлении — пусть работают. А вдруг получится…» Что называется, скрещиваем пальцы. А вдруг и вправду получится… А вот доктор физико-математических наук, член-корреспондент РАН Дмитрий Квон был предельно откровенен: «Они пишут: «А на выходе при равной мощности оборудованию ASML источника излучения российская установка будет в 1,5—2 раза эффективнее того, что создано мировым лидером». Это вранье».
Деньги — условие необходимое Между тем правительство России действительно прилагает массированные усилия, чтобы решить проблему «чиповой достаточности» отечественной экономики. Так, государство в 2023 году планирует увеличить финансирование госпрограммы «Развитие электронной и радиоэлектронной промышленности» по сравнению с текущим годом в 1,8 раза — до 71 млрд руб. Увеличены ассигнования «на предоставление субсидий российским организациям на финансовое обеспечение части затрат на создание электронной компонентной базы и модулей в связи с уточнением прогноза потребностей со стороны получателей» рост на 12,98 млрд руб. Правительство РФ будет ежегодно выделять субъектам дополнительные средства на развитие в стране собственной электронной индустрии». Он отметил, что сумма составит до 300 млн руб. Интерфакс приводит слова премьера: «Эти средства позволят снизить затраты управляющих компаний технопарков и соответственно предложить бизнесу более благоприятные условия, облегчить формирование на таких территориях центров технологических компетенций, коллективного проектирования и дизайна, а значит — расширить мощности для подготовки и выпуска прототипов». Общий объем финансирования новой программы в 2023—2025 годах составит 7,2 млрд руб.
Субсидии будут выделяться в рамках государственной программы «Развитие электронной и радиоэлектронной промышленности». Мишустин отметил, что «благодаря такой помощи в ближайшие семь лет появится не менее 150 тыс. Недавно сообщалось также, что после введения рядом стран антироссийских санкций Минпромторг предложил направить 70—100 млрд руб. Кстати, в этом контексте отнюдь не случайным выглядит то, что новым президентом Российской академии наук 20 сентября 2022 года был выбран академик Геннадий Красников, специалист именно в прикладной науке, в полупроводниковых технологиях. Не литографией единой И все-таки насколько реальна «литографическая» революция, которую вроде бы уверенно прогнозируют в Институте прикладной физики РАН: «В 2024 году должна быть готова «альфа-машина». Уже с этого момента установка станет рабочим оборудованием и будет рассчитана на проведение полного цикла операций».
Установки электронной литографии
Изобретатели продолжают совершенствовать созданный ими комплекс для литографии. В частности, они намерены оснастить обе входящие в его состав установки искусственным интеллектом, не уточняя, какие именно задачи он будет решать. Недавно стала известна новость, что в России разрабатывают аналог технологии EUV — отечественный литограф с длиной волны менее 13,5 нм. EUV означает ‘экстремальный ультрафиолет’. Это относится к длине волны света. Рассуждая о перспективах технологий литографии: ArF Immersion, KrF, i-line, ArF Dry и EUV, прогнозируется, что наибольшую выручку к концу 2033 года обеспечит сегмент EUV. Цель фотолитографии в микроэлектронике — формирование заданного изображения на кремниевой подложке для получения необходимой топологии микросхемы. Для этого на кремниевую подложку наносят тонкий слой материала, из которого нужно сформировать рисунок. Контракты предусматривают разработку фотолитографов, оперирующих пластинами диаметром 150 мм и 200 мм, последний будет основным размером, 150мм — опцией. Все наши основные фабрики работают на пластинах в 200 мм. Купить установки электронной литографии по доступным ценам с доставкой, установкой и гарантийным обслуживанием от компании Серния Инжиниринг +7 (495) 204-13-17.
Путь к сердцу полупроводниковой фабрики: какие литографы доступны России?
Аналогов этой установке в мире нет, зато задел для создания её есть и создан он в России несколько лет назад. Роль фотошаблона у такого сканера будет играть массив микрозеркал на основе матриц МЭМС, а детализация достигнет 28 нм и меньше. Схема установки безмасочной рентгеновской литографии с управлением коэффициентом отражения рентгеновского излучения. Источник изображения: Журнал «Стимул» Фактически в России рассчитывают создать литографический сканер на основе так называемого EUV-излучения с длиной волны 13,5 нм и даже меньше. Сегодня такие сканеры выпускает исключительно нидерландская компания ASML и отсекает от этой продукции всех политически неугодных.
Российские учёные планируют использовать в качестве источника излучения как рентгеновские лучи, так и источник синхротронного излучения.
Плазмохимическое травление осуществляется в основном за счёт физико-химического взаимодействия между свободными атомами, ионами, радикалами и другими частицами, образующимися в плазме, и поверхностными атомами обрабатываемого материала. Также по теме «Основа новых технологий хранения и передачи информации»: российские учёные создали материалы для спиновой электроники Российские учёные разработали новый класс материалов для спиновой электроники, в которой единицей информации будет выступать квантовое... Результаты нашей работы были представлены на форуме «Микроэлектроника-2023», а непосредственно само разработанное и созданное нами технологическое оборудование планируется представить на III конгрессе молодых учёных 28—30 ноября 2023 года. Отмечу, что разработку ведут сотрудники научно-исследовательской лаборатории «Технологии материалов и изделий электронной техники» в рамках реализации программы научного центра мирового уровня «Передовые цифровые технологии» СПбПУ. В дальнейшем мы также планируем совершенствовать наше оборудование. Таким образом, сформированные нами микро- и наноструктуры являются основой для создания солнечных элементов батарей, панелей, модулей и т.
Все остальные проблемы решаются изучением различных источников, применением накопленного опыта и навыков, которые были приобретены ранее при выполнении смежных задач. В целом мы делали каждый узел установок пошагово и на каждом шаге тестировали разработанные и созданные узлы, после чего производили доработку. Повторяли вышеописанные действия до тех пор, пока не получили удовлетворяющий нас результат. Кому-то интересно создание массива наноигл для производства автоэмиссионных катодов, кому-то нужны отдельные узлы созданного комплекса в комплекте с уже разработанными конкретными технологиями.
У него есть преимущества перед более распространенной фотолитографией, использующий ультрафиолет.
Особенно когда речь идет о работе с участками сверхмалого размера — порядка 14 нм и меньше. Есть, правда, с ним и дополнительные трудности. Так, рентгеновское излучение требует принципиально иной, совершенной оптики. Поверхность ее элементов должна быть гладкой до атома. Без преувеличения: допустимая шероховатости не может превышать 1 Ангстрема — это одна десятимиллионная доля миллиметра.
Еще одна сложность — сам источник излучения. Он должен быть одновременно мощным и очень «точным»: излучать строго ту длину волны, которая нужна для работы - до сотых нанометра. К тому же, источник излучения не должен загрязнять зону, где идут рабочие процессы. Эти критические задачи и нужно было решить на этапе создания демонстратора. И здесь отечественные разработчики пошли своим собственным уникальным путем.
Основной задачей ASML при этом было сохранение крайне высокой производительности, которая нужна только на самых крупных мировых фабриках. В России настолько скоростные машины попросту никому не нужны. В нашей работе мы отталкиваемся от потребностей и задач, стоящих перед отечественной микроэлектроникой - а это не столько про количество, сколько про качество. Нам в первую очередь нужен переход на собственные процессы, освоение новых проектных норм, собственное приборостроение, инжиниринг, материалы, поэтому собственный путь тут неизбежен. Фактически мы стараемся балансировать между простотой и производительностью», — говорит заместитель директора Института физики микроструктур РАН по научно-технологическому развитию Николай Чхало.
По сравнению, например, с литографами ведущего мирового производителя из Нидерландов - ASML, в нижегородской модели источник излучения в разы компактнее и чище в работе, что в конечном итоге значительно влияет на стоимость, размеры и сложность оборудования. Оптическая же система демонстратора, произведенная в ИФМ РАН, вообще превосходит все аналоги, существующие в мире на сегодняшний день. В итоге, как ожидают ученые, при равной мощности источника излучения нижегородская установка — уже не демо-, а полностью рабочая - будет в 1,5-2 раза эффективнее голландской. И основания для таких прогнозов есть: уже благодаря одному только демонстратору получены отдельные изображения на подложках с разрешением до предельных 7 нм. В трех шагах от будущего Промышленный образец литографа планируется создать уже через шесть лет.
Прежде, как и в случае с любыми другими высокотехнологичными разработками, предстоит преодолеть несколько этапов, постепенно внедряя элементы автоматизации, наращивая мощность источника, усложняя оптическую схему.
Если последнее, то это выглядит достаточно амбициозно, и если к 2028-ому году действительно удастся создать реальный промышленный EUV-литограф — это будет, несомненно, огромным успехом, так как напомню, на текущий момент такие установки в мире делает только ASML. Ещё интересный момент, что в данном случае в качестве источника излучения выбран газ ксенон. На заре зарождения EUV-литографии газ ксенон считался наиболее перспективным вариантом, но дальнейшие исследования привели индустрию к выбору олова, а промышленые рабочие установки на ксеноне так и не получили билет в жизнь. Чем обусловлен выбор ксенона и каким образом создателям данной литографической установки удалось победить его проблемы — крайне интригующий вопрос. Китай Из всей заграницы, есть только одна страна, которая потенциально может нам помочь — Китай. На текущий момент главный и единственный достоверно известный производитель литографического оборудования в Китае — это компания Shanghai Microelectronics Equipment. Правда, тут есть один важный нюанс. В найденной на просторах интернета отчётности SMEE есть данные о выручке с разбиением по классам литографических систем, и выглядят они вот так: Статистика заканчивается 2019-ым годом.
Если она верна, то можно сделать вывод, что по факту основным продаваемым продуктом компании SMEE является i-line степпер на 280 нм. Было некоторое количество продаж KrF-степперов на 110 нм, последние из которых датируются 2014-ым годом.
Установки электронной литографии
Проект реализуется до конца 2022 года по заказу Министерства промышленности и торговли Российской Федерации в рамках государственной программы «Развитие электронной и радиоэлектронной промышленности». #литография. Нет ни одного материала. © 1998-2023. ФГБУ «Редакция «Российской газеты». Во-первых, в индустрии микроэлектроники используется 2 основных вида литографии: фотолитография и электронно-лучевая. Для производства чипов по техпроцессу 45 нм и ниже обычно уже нужны установки иммерсионной литографии (ArF immersion), для техпроцессов ниже 7 нм – EUV-литографы. Иммерсионных и EUV-литографов в России, насколько мне известно, в данный момент нет.